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          大體標本成像如何對光線進行反卷積運算

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          大體標本成像如何對光線進行反卷積運算

          發布日期:2019-05-21 作者: 點擊:

          對光線進行反卷積運算是光學成像領域的成熟技術,Z早由美國國家航空航天局開發并成為觀察微弱天體信號的標準技術。大體標本成像去卷積和共聚焦技術是光學顯微鏡領域獲得單一焦平面光線的兩大主流技術(J.M.Murray, live cell imaging, 2010)。。

          大體標本成像


          通過將非焦平面的光線還原至焦平面上,大大提高了樣品信號的強度以及圖像的信噪比。由于去卷積技術設計到大量的后期運算,因此在高性能計算機發明以前,一直受制于運算能力,沒有得到大規模的推廣。

          隨著近年來計算機性能的大幅提升和價格的下降,去卷積技術逐漸成為光學顯微鏡的主流技術。一個點光源經過顯微鏡的光路,由于鏡片對光線的衍射和散射,Z終呈現在觀察者面前的是一個模糊的點。

          所以點光源變成模糊的點的過程即為卷積。反卷積就是把模糊的點還原成點光源的過程。共聚焦顯微鏡它采用點光源 照射標本,在焦平面上形成了一個輪廓分明的小的光點,該點被照射后發出的熒光被物鏡收集,并沿原照射光路回送到探測器。

          探測器前方有一個針孔(pinhole) ,幾何尺寸可調。這樣,來自焦平面的光,大體標本成像可以會聚在探測針孔范圍之內,而其它來自焦平面上方或下方的散射光,都被擋在探測針孔之外而不能成象。



          本文網址:http://www.gz-lizy.com/news/442.html

          關鍵詞:大體標本成像,西安大體標本成像,陜西大體標本成像

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